行政院於110年4月15日「美中科技戰下臺灣半導體前瞻科研及人才布局」報告中指出「未來將以楠梓原高雄煉油廠為半導體材料研發核心，北接路竹、橋頭至南科為新興半導體製造聚落，南接大社、仁武、大寮、林園、小港、大林蒲半導體材料、石化聚落，並結合台積電、日月光、華邦、穩懋等半導體廠，建立南部半導體材料 S 形廊帶。
過去40年來，政府積極打造科學園區作為臺灣半導體產業發展基地，臺灣已成為全球第一的半導體聚落。近年因應美中科技戰、台商回流，產業用地需求提高，科技部已逐步更新科學園區標準廠及開發新設園區等，促使廠商根留臺灣，並提升產業群聚效應。未來經濟部及其他相關部會也會加速發展高雄半導體材料聚落，協助地方相關產業升級，建立完整的在地戰略生態。

高雄市政府為爭取高科技產業於當地設廠，提出楠梓產業園區都市計畫變更、園區用地提供、供電、供水、污水處理規劃、園區開發經費撥還及空污抵換等需行政院各部會協處事項，經行政院於 110 年 8 月 25 日召開「高雄市政府提出高雄煉油廠土地報編『楠梓產業園區』科學園區籌設前置計畫協調會」，結論：有關本案園區開發設置，應朝中央與地方行政一體之原則辦理，請各部會盡力配合高雄市政府於本案之需求，務必於規劃之期程內完成相關作業。因此本處為因應本案用水需求，計畫於高雄市楠梓區高楠公路1616巷設置配水池加壓站一處及新設1000mm供水管線，其計畫加壓站及管線位置示意圖（詳圖）。